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上海中微反擊美國應用材料訴訟
2008-01-11 07:49:34  作者:zhengycn摘錄  來源:

  王如晨

  一場訴訟,正將本土半導體設備企業上海中微推向全球公眾視野。這家企業的董事長尹志堯昨天在上海首次公開回應說:“美國應用材料公司(下稱‘應材’)的舉動是在混淆視聽。”他對《第一財經日報》說。他還表示,已聘請全美最著名的兩家律師事務所,將積極應訴。

  應材在“混淆視聽”

  此前,應材在美國加州對中微提出控告,理由是后者竊取其商業機密開發了半導體設備。

  應材在訴狀中說,尹志堯辭去應材副總裁兼CTO前,一直管理等離子蝕刻產品團隊,參閱過“大量敏感信息和商業機密”,而中微副總裁陳愛華之前擔任另一產品經理,熟悉相關專利。他認為,中微如此短時間開發兩款設備,顯然侵犯了其商業秘密。它也因此認為,中微在美、日等地申請的兩項專利,應歸它所有,因為此前公司與中微4名高管簽過協議,規定任職期間與離開后1年內的專利歸于應材。

  尹志堯表示,1984年開始,他就先后在英特爾、美國泛林半導體、應材主持等離子刻蝕技術,但這并不意味著中微技術來源于應材。至于陳愛華,其在應材相關部門做的設備,在類別與中微設備有明顯不同。

  關于專利,尹志堯說應材“完全在推理”,因為其中之一與應材的領域完全無關,而另一項則是基于公開教科書而做的發明。在協議與專利關系上,尹志堯透露,應材有意刪掉一個條件,即協議并未規定,4名高管與應材工作無關的專利也歸應材所有。

  “應材這么做,一定程度上讓不明真相的人以為,一些中國人拿了美國的好東西。”尹有些不平地說。他還補充說,全球半數以上的等離子刻蝕技術都與他有關,他目前擁有大約85項(包括正在申請中的)專利。

  背后的競爭

  雙方訴訟的背后,是一種顯而易見的商業競爭。中微前不久發布的兩類設備,正在中芯國際等多家企業中試運行,這直接威脅到應材的利益。

  尹志堯透露了兩類設備的巨大市場。一條12英寸生產線,如果產能為5萬片,至少需要70臺化學薄膜設備、70臺等離子刻蝕設備,總價至少4億美元。未來5年,僅此兩項設備的年增長率,至少在10%以上。而目前能研發、生產兩類設備的企業,全球分別只有3家。

  在技術基礎上,尹志堯認為,中微基于亞洲運營的商業與產品策略已對應材構成足夠挑戰。他說,全球半導體產業已進入成熟期,產業鏈其他環節均正加速向亞洲尤其中國遷移,而設備業卻一直固守原地,這對整個產業發展十分不利,而這也正是他離開應材創立中微的主要原因。

  尹志堯表示,公司正在積極應對,而這種訴訟往往大公司敗訴的多。

  不過,一位半導體產業人士表示,應材財力雄厚,恐怕不在乎輸贏,拖住中微,影響其客戶關系才是目的。尹志堯坦陳,應材的舉動確實讓部分客戶有了一點疑慮,不過公司有足夠信心贏得勝利。

  “我們馬上將完成第三期融資,大約9000萬美元。”他透露,未來公司將尋求在美國或歐洲上市。此前三年,它兩期融資額為1.1億美元。


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